真空镀膜是指在真空环境下，将某种金属或非金属以气相的形式沉积到材料表面，形成一层致密的薄膜。

   公司拥有电子束蒸发、磁控溅射、LPCVD、PECVD、ALD等一系列镀膜技术，蒸镀材料涵盖金、铂、钨、镍、银、铜、铝、锡、铬、钛、钽等全部常用金属，非晶硅、氧化硅、氮化硅、氧化铝、氧化铪等非金属材料，镀膜具有均匀性好，膜层致密，均匀性好等特点。