Lift off光刻胶

188-62188819

Lift off光刻胶

发布时间: 2017-11-21 09:51

光刻胶——Lift off光刻胶

商品信息

型号光源类型分辨率厚度（μm) 适用范围

KXN5735-LO g/h/i-Line 负性 4μm 2.2-5.2 负性光刻胶;倒角65-80°，使用普通正胶显影液显影。

LOL2000/3000 g/h/i-Line / NA 130nm-300nm 非感光性树脂，可以被显影液溶解，作为lift off双层胶工艺中底层胶使用。

ROL-7133 g/h/i-Line / 4um 2.8-4 负性光刻胶，倒角75~80°，使用普通正胶显影液。

上一个：薄胶

下一个：半自动袜针

型号	光源	类型	分辨率	厚度（μm)	适用范围
KXN5735-LO	g/h/i-Line	负性	4μm	2.2-5.2	负性光刻胶;倒角65-80°，使用普通正胶显影液显影。
LOL2000/3000	g/h/i-Line	/	NA	130nm-300nm	非感光性树脂，可以被显影液溶解，作为lift off双层胶工艺中底层胶使用。
ROL-7133	g/h/i-Line	/	4um	2.8-4	负性光刻胶，倒角75~80°，使用普通正胶显影液。